一、產(chǎn)品名稱：鈦靶材、鈦靶
牌號：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7
廠家：巨偉鈦業(yè)
主要形式：圓靶、板靶、管靶
鈦含量≥：99.8(%)雜質含量：0.02(%)重量：不等(KG/塊)
密度：4.51或4.50
圓靶：
60/65/70/80/85/90/95/100(D)×20/30/32/35/40/42/45/50(T)
板靶：60/80/120(W)x6/8/12(T)×519/525/620(L)&60-800(W)x6-40(T)x600-2000(L)
管靶：0.1-30.0mm(W.T.)*3-350mm(O.D.)*50-15000mm
用途：鈦靶材用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等。
二、產(chǎn)品名稱：702鋯靶、705高純鋯靶、鋯塊、鋯多弧靶
分類：
形狀可分為長靶，方靶，圓靶，異型靶
成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
鋯靶主要應用于微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材。
三、產(chǎn)品名稱：高純鉻靶、 鉻靶材、 鉻靶塊、 鉻板靶
可定制靶材規(guī)格：
圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）
板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）
管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內直徑φ2.0mm-280mm）
材料純度：>99.995%
金屬雜質含量：（Al/Fe/Ca/Mg/Cu/Co/Ni/Ti/Mn/Si/Na/K//P/W/Mo/Zn/Sn）：<10ppm
平整度（TIR）:<20μm
局部平整度（STIR）:<10μm
翹曲度（Warp）:<50μm
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